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平面全息光柵

簡(jiǎn)要描述：平面全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強度按照正弦曲線(xiàn)形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過(guò)程用于復制。

  • 產(chǎn)品品牌：其他品牌
  • 廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2023-01-04
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量：780

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組件類(lèi)別其他應用領(lǐng)域醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合

平面全息光柵


全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強度按照正弦曲線(xiàn)形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過(guò)程用于復制。由于全息光柵刻線(xiàn)形狀以及刻線(xiàn)間距是wan全一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。


600l/mm---UV


1200l/mm---UV


1800l/mm---UV


2400l/mm---UV


3600l/mm---UV


1200l/mm---VIS


1800l/mm---VIS


2400l/mm---VIS


特征

光柵基片材料：

浮法玻璃

表面光潔度：

60-40

尺寸誤差：

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

45%~65% @峰值波長(cháng)

有效孔徑:

90%

損傷閾值:

350mJ/cm2@200ns脈沖激光

40W/cm2（CW）連續激光


產(chǎn)品編號

產(chǎn)品名稱(chēng)

尺寸

刻線(xiàn)數

優(yōu)化波段

色散

379500

平面光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379501

平面光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379502

平面光柵 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379503

平面光柵 12.7x12.7x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379504

平面光柵 12.7x12.7x6mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379505

平面光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379506

平面光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379507

平面光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379508

平面光柵 25x25x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379509

平面光柵 25x25x6mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379510

平面光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

紫外(UV)

1.67nm/mrad@250nm

379511

平面光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

紫外(UV)

0.82nm/mrad@250nm

379512

平面光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

紫外(UV)

0.54nm/mrad@250nm

379513

平面光柵 50x50x9.5mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

2400Lines/mm

紫外(UV)

0.40nm/mrad@250nm

379514

平面光柵 50x50x9.5mm 3600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

3600Lines/mm

紫外(UV)

0.25nm/mrad@250nm

379515

平面光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379516

平面光柵 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1800Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379517

平面光柵 12.7x12.7x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

2400Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.33nm/mrad@500nm

379518

平面光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379519

平面光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379520

平面光柵 25x25x6mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

2400Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.33nm/mrad@500nm

379521

平面光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.79nm/mrad@500nm

379522

平面光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.50nm/mrad@500nm

379523

平面光柵 50x50x9.5mm 2400Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

2400Lines/mm

可見(jiàn) (VIS)

0.33nm/mrad@500nm




全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強度按照正弦曲線(xiàn)形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過(guò)程用于復制。由于全息光柵刻線(xiàn)形狀以及刻線(xiàn)間距是wan全一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強度按照正弦曲線(xiàn)形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過(guò)程用于復制。由于全息光柵刻線(xiàn)形狀以及刻線(xiàn)間距是wan全一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強度按照正弦曲線(xiàn)形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過(guò)程用于復制。由于全息光柵刻線(xiàn)形狀以及刻線(xiàn)間距是wan全一致的，所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓，正弦和閃耀。

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